在2002年的一场研讨会上，林本坚提出：“我们是否可以尝试一下浸入式方案呢？在我看来，在157纳米波长下，水是不透明的液体，但是如果波长换成193纳米的波长时，水在193纳米的光波下，折射率高达1.44，可见光就可以达到指数132纳米！”
“如果把水换成一种比较有可操作性的浸入液，重点解决掉浸入液的问题，那在现在十分成熟的193纳米光刻设备基础上，这种课题我觉得应该不是难题。然后我们还可以把157纳米的……”
当林本坚说完之后，阿斯麦尔的众大佬，立刻惊为天人。
他们不敢保证这个做法肯定可以，但确实是有很大的可操作性。
其实这不是林本坚第一次提出他的构想。
在此之前，他曾和尼康的提出过自己的疯狂设想。
而那时的尼康高层，已经完全否定了193纳米的可行性，正在努力钻研157纳米的干式光刻机。
在他们看来，芯片制程是需要真空无污染的环境，而水本身就是一种污染体，所以这种设想根本不成立！
阿斯麦尔却是不同，他们在认定林本坚这种设想的可行性后，立刻不惜重金，投入到了试验当中。
2004年，阿斯麦尔在烧钱如流水的情况下，终于成功的推出了浸入式的132纳米的光刻机。
而几年之后，尼康才研发出，他们用干式法研
制出的157纳米的光刻机。
关于光刻机方面的知识，又是某次酒后黄永平给乔扬灌输的。
当时两人聊起了天域的芯片产业，乔扬就很不解的问道：“我说老黄，我们就不能自己造芯片吗？非要从外国进口，还得处处受制。我觉得以我们国家现在的水平，造个芯片没多大问题吧？软件不行我认了，因为咱们起步晚，可硬件我觉得还好吧？”
黄永平因为和他是好基友，私下里从未拿他当老板，于是嗤笑一声，说道：“你懂个毛线啊。有技术不是万能的，你还得有设备才行。芯片又不是用手就能画出来的，那得需要光刻机！”
“说到光刻机，就不得不提到ASML。最早ASML就是飞利浦旁边的一个小破厂，实力和尼康、佳能没法比。但当时天劫为了抑制恶运国的科技产业力，于是就花重金支持荷兰的ASML……”
有了天劫的支持，再加上ASML会做事。
他也知道自家公司体量小，于是就和很多公司达成协议，配件都是在这些知名大公司采购，做到了有钱大家赚。
再加上自家的专家也够给力，所以奋起直追，在技术实力方面追上了恶运国双雄。
然后到了今年之后，就发生了前面说的内容。
ASML采纳了林本坚的设想，恶运国双雄开始花样作死，于是被ASML远远甩在了身后。
但因为光刻机的制造工艺太过复杂，而且需要的配件和技术实力实在是太高端，所以每年ASML能生产出几十台光刻机，那就已经是奇迹。
前面说过，现在的第二代光刻机，刚一问世才生产出两三台，你想想后来当光刻机发展到光刻辨识率达到10纳米之内，那制造
工序有多少繁琐。
往往降下去1纳米的光刻辨识率，可能就得多几百几千个高精度配件。
还有ASML荷兰的企业，而且他的股东众多，大多数都是欧美相关行业的巨头。
再加上台积电、联发、高通、博通、英伟达、三星、德州仪器、AMD等芯片巨头。
所以别看光刻机动不动就身价过亿，但ASML每年生产的光刻机，根本不够分的。
自家人都得提前个两三年预定，而且为了得到一台光刻机，几大巨头嘴炮不断的情况也屡见不鲜。
综上所述，天域的企业因为都是新生力量，和ASML没有很深的交情，