层保护摸对此紫外光极为敏感，所以只要紫外光一出现，保护膜立刻就会变软，这样会使保护膜的清洗变得容易很多。
光刻机，顾名思义，就是用光来刻画东西的机器。
光是紫外光，刻画的就是各种电路和微晶元件。
就算咱们刻的印章一样。
你把刻好的印章沾上印泥，往纸上一扣，就会出现印章上的图案。
光刻机的工作程序同理如上。
只是光刻机要刻画的作品极小极小，都是以纳米来计算的。
而在同样使用面积下的芯片，当然是集成的微晶元件越多，计算功能就越强，芯片也就越高级。
想要让芯片越来越先进，那就需要集成的微晶元件越来越多。
微晶元件集成的多与少，那就全看光刻机的精度了。
光刻机刻画的笔调越细，那肯定能集成的微晶元件也就越多。
但不是你想让光刻机笔调有多细，他就能有多细的。
光刻机的精密程度，就取决于它的波长，以及它的纳米级分辨率。
目前是先进的光刻机，就是刚才倪老说的193纳米波长。
光波分辨率达到的最高数字就是70纳米。
未来的发展方向，当然是这个光波分辨率越低越好。
光波分辨率越
低，就说明笔道越细。
笔道越细，刻画出的微晶元件自然也就越小。
同等面积下，当然是微晶元件最小，能容纳的数量就越多。
这就是光刻机的重要之处。
而在ASML公布这个消息之前，最先进光刻机的光波分辨率，也只是140纳米。
但就在一天前，AMSL推出了第二代光刻机，这次他们取得了一个重大突破，硬生生的把140纳米的光波分辨率，搞到了70纳米。
整整缩了一倍啊！
如此极其精密的仪器，他的产量怎么可能会高。
尤其是刚刚问世的二代光刻机。
直到前天ASML公告天下，他们公司也只是生产了两台而已。
对于IT界来说，得光刻机者得天下。
所以说，谁能拿到这两台光刻机，谁就将在技术层面处于领先的地位。
也因为这样，所以倪光难像疯了一样，一遍遍的给乔扬打电话，就是想要占得先机！
听完倪光难的原理讲解，让乔扬对于光刻机有了更深入的认识。
他一脸郁闷的问道：“我说倪老啊，以我们公司现在的水平，用得着这么高端的光刻机吗？在此之前，我不是给您买了200纳米级一代光刻机，那还不够用的吗？”