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第四百五十三章 要撤离东神大?这是要放弃研究1nm工艺光刻机了?(1 / 3)

第四百五十二章1nm工艺光刻机都捣鼓出来了,怎么秦总师还一脸不满意呢?

极紫光的关键点在于什么?

经过一个月的研究,秦逍终于有了自己对极紫光的一种理解。

而这其中,难度最大的,莫过于EUVL光源的激发。

所以,极紫外光刻技术,也被称之为EUV光刻,是目前全世界范围内,最先进最前沿光刻机使用的一种光刻技术。

而想要达成极紫光刻技术,最重要的一点就是不会产生辐射的光源激发。

经过这段时间的研究,秦逍发现,中性原子和凝聚态物质不会产生EUV辐射。

但想要让一种材料发光,首先需要做到的就是电离,因为极紫外光,只会被多个带正电的离子束缚的电子产生。

举个例子,一个电子从+3碳离子eV的要求,这样的电子比典型的价电子更紧密地结合。

多价正离子只能存在于高温高密度等离子体中,并且自身会强烈吸收EUV。

这,才是实现极紫光刻技术的关键。

而且,EUV光刻与当今使用比较广泛,同属于科技前沿的深紫外光刻有很大不同。

EUV可以吸收所有材料中的EUV,因为它接近波长为13.5nm的软X射线。

因此,EUV光刻必须在真空中进行,非真空状态,也许就会导致EUV光的损失。

这些,就是秦逍这段时间的收获。

也许,相对来说还有很多地方有所缺陷,可开展第一次极紫光刻却也是足够了。

实际运用,才是检验真理的唯一标准20,同样的,也是发现问题的关键。

实验室中,林海源等人正在紧张的准备着各种仪器设备。

与之前的实验略显不同,极紫光刻技术要求极高,能否一次成功,哪怕秦逍都是信心不大,这也就意味着,再进行实验过程中的数据收集工作就变得至关重要。

极紫光刻技术的问题出在哪里,不算肉眼就能看出来的,需要借住各种仪器设备传感器捕捉数据,通过数据来直观的了解到一些信息,从这些信息中发现问题,解决问题,不断地进行尝试,修复,完善,最终,才有可能研发出真正地EUV光刻机。

知道这次实验重要性的林海源等人,都很谨慎,生怕自己这里出错到底实验不成功,或者无法捕捉到关键性的数据。

两个多小时的各种调试下来,发现没有什么问题的林海源等人,这才松了口气,直接走到不远处的办公室。

林海源抬手直接敲门:“秦总师,所有设备都调试好了。”

此时此刻,秦逍还在查看之前的设计书,没有发现问题的他,将设计书放下,朝着林海源等人点了点头。

随后,起身朝着实验室走去。

实验室中,除了必要的仪器设备之外,还有就是之前那台大型的7nm工艺光刻机。

而此刻,这台7nm工艺光刻机已经被改造成了EUV光刻机,至于能否成功,一切还得看这次实验。

除了这些,那就是位于一旁的大屏幕了。

大屏幕上,各种数据罗列其上。

秦逍,直接站在大屏幕前。

看到秦逍站到大屏幕前,林海源等人都是呼吸一滞,紧张的望着。

终于要开始了么?

几人,从未想过,这一天会来的这么早,来的这么快。

按照他们对科研的理解,特别是这种重大科研项目的了解,没有三五年时间,根本就出不了任何结果。

别说科研成果了,光是一点进展,也许都要几年时间才能做到。

而且,他们也都是这么想的,哪怕秦逍之前改造成功了5nm工艺光刻机,依旧没有觉得秦逍短时间内可以完成1nm工艺光刻机的研发。

5nm工艺到1nm工艺,看似不大的差距,可放到

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