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第二百四十四章 制裁?那就搞X光刻机!(1 / 3)

【fbi突然出动,抓住了潜伏其内十年的卧底。】

【fbi抓住一名卧底,疑似华国人?】

【近日fbi抓住一名卧底,在庭审前日晚畏罪自杀】

【卧底自杀?还是另有原因!】

……

一条条相关的新闻,开始争抢起了各种头条。

这样的新闻,不得不引起人们的注意,卧底?

还有卧底畏罪自杀?

对于这样的消息,每个看到的人都感到震惊。

华国国内,在网络上讨论的人也很多,都不知道这个卧底是否真的是他们的人。

毕竟这些都只是从国外传出的消息,没有人知道详情。

而相比较这个政治上的事情,对于半导体界人来说,却更加关注另外一条消息。

国外的制裁技术又加上了几条,一条,准激光发射器。

这个东西,是光刻机光源中十分必要的一个部件。

其主要就是利用二氧化碳激光器发射出极高能的激光,输出超过30kw平均功率的激光束,脉冲峰值最高可达几兆瓦,然后如此高能的激光,击打在不断从上方滴下的锡珠上,然后使其发射出波长为13.5nm的极紫外光。

而想要在二氧化碳激光器上实现如此高的功率,普通的技术完全行不通,而华国当前的二氧化碳激光器在功率上并不能达到这种要求,而需要知道的是,这个功率,最终影响的就是euv光源的实际功率。

如果euv光源没有足够大的功率,对他们的影响,十分之大。

此外,还有其他几种euv光源中较为重要的传感器也遭到了制裁。

这样一来,他们再想要研发光刻机,就必须先在这些方面实现突破,否则光源搞不出来,全部都白搭。

一时之间,华国半导体界,又掀起了一片唱衰的声音。

要是继续一个一个地搞下去,他们得花多少时间?

到时候国外说不定早就找到了能够突破现有光刻机的技术了。

而除了这些和光刻机技术有关的东西之外,国外又在原材料之一的光掩膜版上面进行了制裁,光掩膜版是光刻流程中同样十分重要的东西,只有通过掩膜版,极紫外光才能实现直接光刻。

而现在主流掩膜版中,都是以石英作为材料的,而这次主要制裁项目,就是这种石英材料,而这种石英材料的生产工艺难度十分高,国内一直都需要进口国外的。

而现在他们买不了石英材料了,就等于说国内掩膜版厂商,全部都直接废了。

这几招下来,国内半导体产业链便再一次遭到了重创。

……

“妈的,那帮洋鬼子,肯定是看我们又搞出了顶级的镜面抛光技术后,想出来的坏事情,真是太不要脸了!”

定光研究所,林晓的办公室中,罗明愤愤不平地说道。

但林晓却只是静静地坐在自己的办公桌前,思考着问题。

而罗明还气不过,继续说道:“他们还抓了一个卧底,声称是我们的人,然后还宣传他在监狱里面上吊自杀?明显就是再给我们示威呢!监狱里面能刚好有个绳子让人上吊吗?”

“呸,恶心!”

而听到罗明这么说,林晓却是眉头一皱:“卧底?上吊自杀?”

“是啊,国外的消息,都传回来了,简直是太可恶了!”

罗明无比气愤地说道。

但是林晓却倏然站了起来。

卧底?

然后恰好在这个时间节点被发现?

他的记忆力很好,同时联想能力也很强,他立马想到了当初沃尔夫奖的事情。

不就是有国安

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