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第414章 你到底为什么回国?(1 / 2)

学霸之巅第414章 你到底为什么回国?

徐佑知道,黄思白最近一直在魔都,想要来蓟京大学一趟,其实还是挺不容易的。

“最近还好,也正好要回总公司一趟,所以就过来找您了。”黄思白笑着说道。

听黄思白这么说,徐佑总算没有什么心理负担了。

简单的询问了几句后,黄思白开始详细的给徐佑讲解起了,自己最近的这个成果。

“徐教授,最近我做的研究,是有关EUV光刻机的三维掩模成像技术。”

“是的,徐教授。三维掩模成像技术,对EUV光刻成像质量有很大的影响。三维掩模成像模型,是进行EUV光刻成像彷真的基础。”

简单的说,光刻机的工作原理,与照相机有一些类似。

光刻机发出的光,通过具有图形的光罩,能够对涂有光刻胶的薄片曝光。

光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上的图形复印到薄片上。

这样一来,薄片就具有电子线路图的作用了。

只是,与照相机的二维成像不同,光刻机光刻出的电子元件和电路图,是三维的成像。

听着黄思白的讲解,徐佑越发的兴奋起来。

“黄工,你带相关的资料过来了吗?可不可以让我看一下更详细的内容?”

“嗯,徐教授,我带了,等我开一下电脑。”

黄思白也是第一次和徐佑进行学术上的交流,显得有些紧张和激动。

黄思白没有想到,徐佑对于这些不属于他领域上的学术问题,竟然会问得这么仔细。

徐佑的专业程度,甚至并不亚于EUV光刻机项目组的那些科研人员。

“黄工,这里掩模衍射谱的计算,是通过傅里叶变换得到的吧?”徐佑指着资料中的一处问道。

“是的,徐教授,当掩模厚度较小,掩模图形尺寸较大时,掩模衍射谱可以采用薄掩模模型计算。通过傅里叶变换,得到掩模Kirchhoff远场衍射的结果……”

“黄工,这里是不是用到了厄米对称性的性质?”

“没错。为了进一步提高Hopkins成像模型的计算效率,可以根据TCC矩阵的厄米对称性对其进行奇异值分解,并将这个公式截断……”

为了解答徐佑提出的一个个问题,黄思白已经累得满头大汗了。

这种劳累感,并不是因为体力的消耗,而是脑力的大量消耗。

而徐佑却非常享受这种学习的过程,脸上满是轻松和喜悦的神色。

现在的徐佑,根本不需要进入到深度学习状态,就可以轻松的解决各种科研问题。

深度学习状态,对于徐佑来说,只是相当于一个加速器而已。

这时,黄思白擦了擦额头上的汗水,尝试着问道:

“徐教授,我可以了解一些龙芯G1的资料吗?这对我们的光刻机研究,会有一定帮助的。”

徐佑闻言一愣道:“龙芯G1?这款芯片并没有使用到EUV光刻机的技术啊。”

黄思白连忙摆了摆手道:“没有没有,就是我们下一代的芯片,应该会基于龙芯G1进行改良嘛。多了解一下这些芯片的信息,对之后芯片加工技术的研发肯定是有好处的。”

黄思白的话也算有些道理,但徐佑肯定不会随便把这些关键的资料拿出来的。

“黄工,我很高兴你能够主动去了解这些知识,这种工作上的积极性是非常值得提倡的。当然,像这种资料,也不是那么随便就能拿出来的。等以后有机会再说吧。”

徐佑婉言拒绝了黄思白的这个请求,黄思白也看出了徐佑的意思,不敢再提什么,微微的皱着眉头。

这时,徐佑注意到,黄思白的神情有些不太对劲。

这是徐佑从陆知瑶那里学来的一些微表情分析。陆知瑶不仅擅长哲学,在心

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